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納米光觸媒分散機，光觸媒研磨分散機，納米二氧化鈦分散機，光觸媒超細分散機，納米分散機，光觸媒是一種以納米級二氧化鈦為代表的具有光催化功能的光半導體材料的總稱。 在所有的光觸媒材料中，納米TiO2不僅具有很高的光催化活性，且具有耐酸堿腐蝕、耐化學腐蝕、無毒等優(yōu)點，價格也適中，具有較高的性價比，因而市場上大多使用納米二氧化鈦作為主要原材料。

辣椒醬分散機GMD2000系列特別適合于膠體溶液，超細懸浮液和乳液的生產(chǎn)。除了高轉(zhuǎn)速和靈活可調(diào)的定轉(zhuǎn)子間隙外，GMD在摩擦狀態(tài)下工作，也就被稱做濕磨。在錐形轉(zhuǎn)子和定子之間有一個寬的入口間隙和窄的出口間隙，在工作中，分散頭偏心運轉(zhuǎn)使溶液出現(xiàn)渦流，因此可以達到更好的研磨分散的效果。GMD2000整機采用幾何機構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

【管線式小型分散機的簡介】 專為實驗室研發(fā)，模擬生產(chǎn)流程，為量產(chǎn)提供可靠的數(shù)據(jù)論證。該中試型型機器和大型量產(chǎn)機型配置相同，且分散頭的種類及相應線速度也相同，中試過程中的工藝參數(shù)在量產(chǎn)化之后不要重新調(diào)整，而將機器型號升級過程中的風險降到Z低。

硅藻土分散機 ，的高的轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是Z重要的。根據(jù)一些行業(yè)特殊要求，思峻公司在GR2000系列的基礎上又開發(fā)出GRS2000超高速分散機。其剪切速率可以超過100.00 rpm，轉(zhuǎn)子的速度可以達到40m/s。在該速度范圍內(nèi)，由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強粒經(jīng)分布更窄。由于能量密度*,無需其他輔助分散設備。

導電漿料均質(zhì)分散機的設備特點 GRS設備與傳統(tǒng)設備相比： 高效,節(jié)能 傳統(tǒng)設備需8小時的分散加工過程,GRS設備1小時左右完成,超細分散*,能耗極大降低； 高速,高品質(zhì)

納米管線式三級分散機，具有非常高的剪切速度和剪切力，粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性。該設備可以適用于各種分散乳化工藝，也可用于生產(chǎn)包括對乳狀液,懸浮液和膠體的均質(zhì)混合。高剪切分散分散機由定/轉(zhuǎn)子系統(tǒng)生的剪切力使得溶質(zhì)轉(zhuǎn)移速度增加，從而使單一分子和宏觀分子媒介的分解加速。

光敏涂料分散機，對于涂料行業(yè)，傳統(tǒng)的涂料一般采用高速分散機進行分散，要求不高，主要起一個混合作用，但對于納米級涂料以及其他特殊涂料的分散就必須采用高品質(zhì)分散設備進行分散，要保證物料的粒徑以及涂料均勻度，SGN高速剪切分散機可以滿足這種要求。

水煤管線式研磨分散機，水煤漿研磨分散機，水煤漿管線式高剪切研磨分散，SGN水煤漿研磨分散機結(jié)合了目前上*的膠體磨技術與管線式高速分散技術，設備轉(zhuǎn)速Z高可達14000rpm，是國產(chǎn)研磨機的4-5倍。